近日，我中心博士研究生梁鹿阳以第一作者在ELSEVIER旗下电磁功能材料领域期刊Chemical Engineering Journal上发表题为“用于电磁屏蔽和热管理的含有交替取向的石墨烯/Ni纳米链的柔性聚偏二氟乙烯薄膜”的研究论文。

该工作设计了具有各种异质交替多层结构（HAMS）的柔性聚偏二氟乙烯（PVDF）膜，其中包含高取向石墨烯纳米片和Ni纳米链，用于电磁屏蔽（EMI）和热管理应用。结合高电导率和协同电磁损耗以及多层电磁多重反射，厚度为0.5 mm的最佳HAMS膜具有43.3 dB的EMI屏蔽效果，与均质膜（21.8 dB）相比显示98.6％的增量。同时，相对于均质膜（7.84 W / mK）和纯PVDF（0.69）来讲，HAMS膜的面内导热率增量分别为14.3％和〜1200％ W/mK。考虑到卓越的性能和高效的堆叠热压制备技术，HAMS膜作为先进的EMI保护和热管理材料，在实际大规模应用中具有巨大的潜力。

图1. HAMS膜的微观结构解析及其导热和电磁屏蔽机理。

该工作得到了中国国家自然科学基金会（51903223、U1704162）和中国博士后科学基金会（2018M642781）的资助。

论文信息：Flexible polyvinylidene fluoride film with alternating oriented graphene/Ni nanochains for electromagnetic interference shielding and thermal management, Luyang Liang, Penghui Xu, Yafei Wang, Ying Shang, Jianmin Ma, Fengmei Su, Yuezhan Feng,*, Chengen He, Yaming Wang,*, Chuntai Liu. Chemical Engineering Journal, 2020, 395, 125209.

https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1385894720312018